PRODUCT CLASSIFICATION
實驗管式電阻爐根據加熱方式、溫度范圍、氣氛控制、爐管尺寸及功能設計等維度,可細分為多種類型,以滿足不同實驗需求。以下是主要分類及特點:
一、按加熱元件分類
電阻絲加熱管式電阻爐
溫度范圍:通常≤1000℃,適用于低溫實驗(如金屬退火、陶瓷胚體預燒)。
特點:成本低、升溫快,但高溫下易氧化,壽命較短。
應用:高校實驗室基礎教學、材料初步熱處理。
硅碳棒加熱管式電阻爐
溫度范圍:1000℃~1600℃,適合中高溫實驗(如陶瓷燒結、金屬淬火)。
特點:耐高溫、抗氧化性強,但熱慣性較大,升溫速率較慢。
應用:陶瓷材料研發、金屬熱處理工藝優化。
硅鉬棒加熱管式電阻爐
溫度范圍:1200℃~1800℃,適用于超高溫實驗(如熒光粉合成、納米材料制備)。
特點:高溫穩定性佳,但價格昂貴,需配套高精度溫控系統。
應用:半導體材料生長、高溫化學氣相沉積(CVD)。
二、按溫度控制方式分類
單溫區管式電阻爐
特點:爐管內溫度均勻,但僅支持單一溫度設定,適合簡單熱處理。
應用:金屬退火、陶瓷胚體燒結等單一工藝流程。
多溫區管式電阻爐
特點:爐管分為多個獨立加熱區域(如3溫區、5溫區),每個區域溫度可獨立控制,支持復雜溫度梯度實驗。
應用:納米材料定向生長、晶體提拉法(Czochralski法)制備單晶硅。
程序控溫管式電阻爐
特點:配備可編程控制器(如PID模塊),支持多段程序控溫(如30段),可設定升溫、保溫、降溫速率及時間。
應用:鋰電池材料熱解、熒光粉還原氣氛處理等需精確控溫的實驗。
三、按氣氛控制方式分類
普通氣氛管式電阻爐
特點:爐管兩端開口,無氣體保護功能,適用于對氧化不敏感的實驗。
應用:金屬熔煉、陶瓷胚體干燥等基礎加熱場景。
惰性氣體保護管式電阻爐
特點:可通入氮氣(N?)、氬氣(Ar)等惰性氣體,防止樣品氧化。
應用:鈦合金退火、半導體薄膜沉積等需防氧化的實驗。
反應氣體管式電阻爐
特點:支持通入氫氣(H?)、氧氣(O?)等反應氣體,參與化學反應。
應用:金屬氧化物還原(如CuO還原為Cu)、化學氣相沉積(CVD)制備碳納米管。
真空管式電阻爐
特點:配備真空系統(如機械泵+分子泵),可實現高真空環境(真空度≤10?3 Pa),防止空氣倒吸。
應用:真空燒結、真空鍍膜等對氣氛純凈度要求高的實驗。
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