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真空氣氛爐1700℃參數

更新時間：2025-11-24      瀏覽次數：58
1700℃真空氣氛爐是適配材料高溫精密處理的核心設備，以硅鉬棒為核心加熱元件，搭配高強度密封與精準控溫真空系統，廣泛應用于特種材料研發與精密制造，以下是詳細介紹：

核心配置

配置類別具體信息
爐體與爐膛雙層水冷殼體結構，中間填充高純氧化鋯纖維保溫材料，爐殼表面溫度≤60℃，兼顧節能與操作安全。爐膛采用進口剛玉或碳化硅復合內襯，抗熱震性強，加熱區長度 300-500mm，恒溫區溫度均勻性≤±3℃，支持 1700℃短時運行（≤2h），連續工作溫度建議≤1650℃。
加熱與控溫系統加熱元件標配優質硅鉬棒（耐受 1750℃高溫），部分機型可選鉬絲（適配還原氣氛），發熱均勻且穩定性強?？販夭捎?B 型鉑銠熱電偶 + PID 智能控制系統，控溫精度達 ±1℃，支持 50 段程序編程，可自定義復雜升溫、保溫、降溫曲線，適配多工藝需求。
真空與密封系統采用機械泵 + 分子泵組合，極限真空度可達 10??Pa，漏率≤1×10??Pa?m3/s；爐門與接口采用不銹鋼水冷法蘭 + 金屬密封圈密封，高溫下密封性能穩定，有效隔絕空氣滲入。
氣氛與安全系統預留多組氣路接口，可通入氬氣、氮氣等惰性氣體及氫氣（需定制防爆配置），配備高精度質量流量控制器，氣體調節精度 ±1% FS。內置超溫斷電、真空異常報警、氣體泄漏檢測、防爆泄壓閥等多重防護，爐門開啟自動切斷加熱電源，降低實驗風險。

性能優勢

  • 高溫適配性強：硅鉬棒與復合爐膛的組合可穩定承受 1650℃連續高溫，短時沖擊 1700℃，能滿足難熔材料、高溫陶瓷等特殊加工需求。

  • 環境可控精準：真空與氣氛模式靈活切換，高真空度可高效去除材料內部雜質氣體，精準氣氛調控可避免敏感材料氧化，保障加工一致性與材料純度。

  • 穩定安全可靠：水冷結構搭配優質保溫材料，減少熱損耗的同時避免爐體過熱；多重安全防護裝置全面覆蓋高溫、高壓、可燃氣體等風險場景，適配長期精密實驗與生產。

典型應用

  • 難熔金屬與合金加工：鎢、鉬、鉭等難熔金屬的真空燒結與熱處理，改善組織結構與耐高溫性能；鈦合金、高溫合金的高溫真空退火，消除晶格缺陷，適配航空航天零部件制造。

  • 特種陶瓷與復合材料合成：碳化硅、氮化硼、氧化鋯等高性能陶瓷的真空致密化燒結，提升硬度與力學性能；陶瓷基復合材料（如 SiC 纖維增強陶瓷）的高溫制備，優化界面結合強度。

  • 半導體與新材料研發：寬禁帶半導體材料（如氮化鋁、碳化硅單晶）的高溫退火與晶體生長，提升器件性能；超導材料、納米粉體材料的真空高溫合成，減少氧化與團聚污染。

  • 精密特種制造：陶瓷義齒、醫療植入件的真空燒結，保障生物相容性與表面光潔度；特種耐火材料、高溫涂層的真空高溫性能測試，模擬服役環境。

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